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Titel:

Distance-Based Multivariate Anomaly Detection in Wire Arc Additive Manufacturing

Dokumenttyp:
Konferenzbeitrag
Autor(en):
Reisch, Raven; Hauser, Tobias; Lutz, Benjamin; Pantano, Matteo; Kamps, Tobias; Knoll, Alois
Seitenangaben Beitrag:
659-664
Stichworte:
Anomaly Detection, Time Series, Multivariate, Additive Manufacturing, Machine Learning
Kongress- / Buchtitel:
2020 19th IEEE International Conference on Machine Learning and Applications (ICMLA)
Verlag / Institution:
IEEE
Publikationsdatum:
01.12.2020
Jahr:
2020
Print-ISBN:
9781728184708
Volltext / DOI:
doi:10.1109/icmla51294.2020.00109
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