Halbleitermaterial mit Doppelhelix-Struktur - Elektronenmikroskopische Aufnahme
Erläuterung:
Elektronenmikroskopische Aufnahme von Fasern des flexiblen Halbleitermaterials aus Zinn, Iod und Phosphor (SnIP) mit Doppelhelix-Struktur, das im Fachgebiet für Synthese und Charakterisierung innovativer Materialien der TU München hergestellt wurde.