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Titel:

PARAMETERS CONTROLLING THE DEPOSITION OF AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON IN SI-H DISCHARGE PLASMAS

Autor(en):
VEPREK, S; IQBAL, Z; OSWALD, HR; al., et
Zeitschriftentitel:
JOURNAL DE PHYSIQUE
Jahr:
1981
Band / Volume:
42
Heft / Issue:
NC4
Seitenangaben Beitrag:
251-255
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