- Titel:
PARAMETERS CONTROLLING THE DEPOSITION OF AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON IN SI-H DISCHARGE PLASMAS
- Autor(en):
- VEPREK, S; IQBAL, Z; OSWALD, HR; al., et
- Zeitschriftentitel:
- JOURNAL DE PHYSIQUE
- Jahr:
- 1981
- Band / Volume:
- 42
- Heft / Issue:
- NC4
- Seitenangaben Beitrag:
- 251-255
- BibTeX