PARAMETERS CONTROLLING THE DEPOSITION OF AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON IN SI-H DISCHARGE PLASMAS

Benutzer: Gast

Titel:: PARAMETERS CONTROLLING THE DEPOSITION OF AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON IN SI-H DISCHARGE PLASMAS
Autor(en):: VEPREK, S; IQBAL, Z; OSWALD, HR; al., et
Zeitschriftentitel:: JOURNAL DE PHYSIQUE
Jahr:: 1981
Band / Volume:: 42
Heft / Issue:: NC4
Seitenangaben Beitrag:: 251-255
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