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- Titel:
Role of oxygen impurities in etching of silicon by atomic hydrogen
- Autor(en):
- VEPREK, S; WANG, CL; VEPREK-HEIJMAN, MGJ
- Zeitschriftentitel:
- JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A
- Jahr:
- 2008
- Band / Volume:
- 26
- Heft / Issue:
- 3
- Seitenangaben Beitrag:
- 313-320
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