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Titel:

OPEN QUESTIONS REGARDING THE MECHANISM OF PLASMA-INDUCED DEPOSITION OF SILICON

Autor(en):
VEPREK, S; VEPREKHEIJMAN, MGJ
Zeitschriftentitel:
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
Jahr:
1991
Band / Volume:
11
Heft / Issue:
3
Seitenangaben Beitrag:
323-334
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