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Titel:

POSSIBLE CONTRIBUTION OF SIH2 AND SIH3 IN THE PLASMA-INDUCED DEPOSITION OF AMORPHOUS-SILICON FROM SILANE

Autor(en):
VEPREK, S; VEPREKHEIJMAN, MGJ
Zeitschriftentitel:
APPLIED PHYSICS LETTERS
Jahr:
1990
Band / Volume:
56
Heft / Issue:
18
Seitenangaben Beitrag:
1766-1768
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