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- Titel:
THE MECHANISM OF PLASMA-INDUCED DEPOSITION OF AMORPHOUS-SILICON FROM SILANE
- Autor(en):
- VEPREK, S; HEINTZE, M
- Zeitschriftentitel:
- PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
- Jahr:
- 1990
- Band / Volume:
- 10
- Heft / Issue:
- 1
- Seitenangaben Beitrag:
- 3-26
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