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Autor(en):
VEPREK, S; HEINTZE, M
Titel:
THE MECHANISM OF PLASMA-INDUCED DEPOSITION OF AMORPHOUS-SILICON FROM SILANE
Zeitschriftentitel:
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
Jahr:
1990
Band / Volume:
10
Heft / Issue:
1
Seitenangaben Beitrag:
3-26
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