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- Autor(en):
- MA, DY; MA, SL; XU, KW; al., et
- Titel:
- Effecting of oxygen and chlorine on nano-structured TiN/Si3N4 films hardness
- Zeitschriftentitel:
- MATERIALS LETTERS
- Jahr:
- 2005
- Band / Volume:
- 59
- Heft / Issue:
- 7
- Seitenangaben Beitrag:
- 838-841
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