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Titel:

Effecting of oxygen and chlorine on nano-structured TiN/Si3N4 films hardness

Autor(en):
MA, DY; MA, SL; XU, KW; al., et
Zeitschriftentitel:
MATERIALS LETTERS
Jahr:
2005
Band / Volume:
59
Heft / Issue:
7
Seitenangaben Beitrag:
838-841
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