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- Titel:
DOMINANT REACTION CHANNELS AND THE MECHANISM OF SILANE DECOMPOSITION IN A H2-SI(S)-SIH4 GLOW-DISCHARGE
- Autor(en):
- ENSSLEN, K; VEPREK, S
- Zeitschriftentitel:
- PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
- Jahr:
- 1987
- Band / Volume:
- 7
- Heft / Issue:
- 2
- Seitenangaben Beitrag:
- 139-153
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