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Titel:

FUNDAMENTALS OF THE PLASMA INDUCED AND ASSISTED CVD - PLASMA PARAMETERS CONTROLLING THE CHEMICAL-EQUILIBRIUM, THE DEPOSITION KINETICS AND THE PROPERTIES OF THE FILMS

Autor(en):
VEPREK, S
Zeitschriftentitel:
JOURNAL DE PHYSIQUE
Jahr:
1989
Band / Volume:
50
Heft / Issue:
C-5
Seitenangaben Beitrag:
617-635
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