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- Titel:
FUNDAMENTALS OF THE PLASMA INDUCED AND ASSISTED CVD - PLASMA PARAMETERS CONTROLLING THE CHEMICAL-EQUILIBRIUM, THE DEPOSITION KINETICS AND THE PROPERTIES OF THE FILMS
- Autor(en):
- VEPREK, S
- Zeitschriftentitel:
- JOURNAL DE PHYSIQUE
- Jahr:
- 1989
- Band / Volume:
- 50
- Heft / Issue:
- C-5
- Seitenangaben Beitrag:
- 617-635
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