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Titel:

MECHANISMS AND RATE DETERMINING STEPS IN PLASMA INDUCED HIGH-RATE CVD OF SILICON AND GERMANIUM - SIMILARITIES AND DIFFERENCES

Autor(en):
VEPREK, S; VEPREKHEIJMAN, MGJ; AMBACHER, O; al., et
Zeitschriftentitel:
JOURNAL DE PHYSIQUE III
Jahr:
1992
Band / Volume:
2
Heft / Issue:
8
Seitenangaben Beitrag:
1431-1438
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