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Titel:

PLASMA CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION AND PROPERTIES OF HARD C3N4 THIN-FILMS

Autor(en):
VEPREK, S; WEIDMANN, J; GLATZ, F
Zeitschriftentitel:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
Jahr:
1995
Band / Volume:
13
Heft / Issue:
6
Seitenangaben Beitrag:
2914-2919
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