In der Arbeit wird eine Apparatur zur kontinuierlichen Herstellung von YBCO-Dünnschichten beschrieben. Die Abscheidung erfolgt auf Substratplatten der Größe 10 x 20 cm, die während der Beschichtung durch den Aufdampfbereich bewegt werden. Das eingesetzte Beschichtungsverfahren ist das thermische Ko-Verdampfen, die Ratenregelung erfolgt durch Atom-Absorptions-Spektroskopie. Damit werden auf einer Substratfläche von 10 x 20 cm kritische Stromdichten von bis zu 3 MA/cm² mit einer Variation von maximal 10 % erreicht. Um mit Hinblick auf eine industrielle Produktion höhere effektive Abscheideraten zu erreichen, wird zudem eine neue Verdampfungsmethode vorgestellt. Dabei wird mit einem Elektronenstrahlverdampfer YBCO-Pulver aus einem Drehtiegel verdampft.    «

In der Arbeit wird eine Apparatur zur kontinuierlichen Herstellung von YBCO-Dünnschichten beschrieben. Die Abscheidung erfolgt auf Substratplatten der Größe 10 x 20 cm, die während der Beschichtung durch den Aufdampfbereich bewegt werden. Das eingesetzte Beschichtungsverfahren ist das thermische Ko-Verdampfen, die Ratenregelung erfolgt durch Atom-Absorptions-Spektroskopie. Damit werden auf einer Substratfläche von 10 x 20 cm kritische Stromdichten von bis zu 3 MA/cm² mit einer Variation von maxi...    »

The thesis describes an apparatus for a continuous fabrication of YBCO thin films. The YBCO deposition is done on large substrate plates (10 x 20 cm) which are travelling through the deposition zone. We used thermal coevaporation by applying atomic absorption spectroscopy to control the specific evaporation rates. The critical current density on substrates of 10 x 20 cm size reach 3 MA/cm² with a variation smaller than 10 %. Additionally, with regard to industrial production where high deposition rates have to be achieved, a new evaporation technique is presented. YBCO powder is evaporated from a turnable hearth by using an electron beam evaporator.    «

The thesis describes an apparatus for a continuous fabrication of YBCO thin films. The YBCO deposition is done on large substrate plates (10 x 20 cm) which are travelling through the deposition zone. We used thermal coevaporation by applying atomic absorption spectroscopy to control the specific evaporation rates. The critical current density on substrates of 10 x 20 cm size reach 3 MA/cm² with a variation smaller than 10 %. Additionally, with regard to industrial production where high depositio...    »