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- Originaltitel:
- Superharte TiN / Si3N4 Nanokomposite durch reaktive Magnetronzerstäubung kombiniert mit chemischer Gasphasenabscheidung
- Übersetzter Titel:
- Superhard TiN / Si3N4 nanocomposites by reactive magnetron sputtering combined with chemical vapour deposition
- Autor:
- Procházka, Jan
- Jahr:
- 2003
- Dokumenttyp:
- Dissertation
- Fakultät/School:
- Fakultät für Chemie
- Betreuer:
- Veprek, Stan (Prof. Dr. Dr. h.c.)
- Gutachter:
- Veprek, Stan (Prof. Dr. Dr. h.c.); Köhler, Frank H. (Prof. Dr.)
- Format:
- Text
- Sprache:
- de
- Fachgebiet:
- CHE Chemie; FER Fertigungstechnik; WER Werkstoffwissenschaften
- Stichworte:
- TiN; Si3N4; Titannitrid; Siliciumnitrid; Nanokomposite; Magnetronzerstäubung; CVD; superharte Materialien; dünne Schichten
- Übersetzte Stichworte:
- TiN; Si3N4; titanium nitride; silicon nitride; nanocomposites; magnetron sputtering; CVD; superhard materials; thin films
- Schlagworte (SWD):
- Titannitrid; Siliciumnitrid; Schichtverbundwerkstoff; Nanostrukturiertes Material; PECVD-Verfahren; Mehrschichtsystem; Magnetronsputtern
- TU-Systematik:
- WER 420d; WER 480d; CHE 380d; FER 882d
- Kurzfassung:
- Die Nanokomposite auf der Basis von harten und stabilen Übergangsmetallnitriden sind eine neue Gruppe thermisch hoch stabiler Materialien mit hoher Härte. In dieser Arbeit wurde eine neue, auf einer Kombination von reaktiver Magnetronzerstäubung und plasmainduzierten chemischen Gasphasenabscheidung basierende Methode zur Darstellung von TiN / Si3N4 - Nanokomposite untersucht und die dargestellten Schichten charakterisiert. Zusätzlich wurden Schichten mit einer reaktiven Zerstäubung von einem Zwe... »
- Übersetzte Kurzfassung:
- Hard and stable transition metal based nanocomposites pose a new group of high hardness materials with a high thermal stability. In this work, a new method, based on a combination of reactive magnetron sputtering and plasma induced chemical vapour deposition, was explored and the films produced were characterized. Furthermore, films were produced by reactive magnetron sputtering with a dual component target and characterized.
- Veröffentlichung:
- Universitätsbibliothek der TU München
- WWW:
- https://mediatum.ub.tum.de/?id=601307
- Eingereicht am:
- 05.03.2003
- Mündliche Prüfung:
- 16.04.2003
- Dateigröße:
- 5499904 bytes
- Seiten:
- 179
- Urn (Zitierfähige URL):
- https://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:bvb:91-diss2003041607864
- Letzte Änderung:
- 12.06.2007
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