This work investigates defects and disorder in nitride semiconductors. It analyzes amorphous and crystalline structures of the Ca-Zn-N material system, the impact of oxygen impurities on the optoelectronic properties of Zn3N2, amorphous GaN as a protective layer, and cation disorder in ZrTaN3. The thesis shines light on different essential aspects to consider in material research to understand the real processes behind the observed changes in the properties of nitride semiconductors.
Translated abstract:
In dieser Arbeit werden Defekte und Unordnung in Nitrid-Halbleitern untersucht. Analysiert werden amorphe und kristalline Strukturen des Ca-Zn-N-Materialsystems, der Einfluss von Sauerstoffverunreinigungen auf die optoelektronischen Eigenschaften von Zn3N2, amorphes GaN als Schutzschicht und die Kationen-Unordnung in ZrTaN3. Die Arbeit hebt wesentliche Aspekte hervor, die in der Materialforschung zu berücksichtigen sind, um die tatsächlichen Prozesse hinter den beobachteten Veränderungen der Eigenschaften von Nitrid-Halbleitern zu verstehen.
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In dieser Arbeit werden Defekte und Unordnung in Nitrid-Halbleitern untersucht. Analysiert werden amorphe und kristalline Strukturen des Ca-Zn-N-Materialsystems, der Einfluss von Sauerstoffverunreinigungen auf die optoelektronischen Eigenschaften von Zn3N2, amorphes GaN als Schutzschicht und die Kationen-Unordnung in ZrTaN3. Die Arbeit hebt wesentliche Aspekte hervor, die in der Materialforschung zu berücksichtigen sind, um die tatsächlichen Prozesse hinter den beobachteten Veränderungen der Eig...
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Series:
Selected Topics of Semiconductor Physics and Technology