Diese Arbeit stellt eine Studie der quaternären Halbleiterlegierung InGaAsN dar, die im Quantum Well Laser verwendet wird. Der optische Teil befasst sich mit Absorption sowie normaler und zeitaufgelöster Photolumineszenz. Die Ergebnisse dieses Teils werden für die Optimierung des Wachstums von InGaAsN durch Molekularstrahlepitaxie für erstklassige 1,3 µm Vertical Cavity Surface Emitting Laser (VCSEL) benutzt. Der Einfluss des thermischen Ausheilens auf die optischen Eigenschaften der InGaAsN Quantum Wells wird untersucht. Mittels Transmissionselektronenmikroskopie werden die strukturellen Eigenschaften der Quantum Wells analysiert. Diese werden mit optoelektronischen Eigenschaften der InGaAsN Quantum Wells korreliert. Photospannungsmessungen werden ausgeführt, um die Bandoffsets in den Quantum Wells und damit den Einfluss des Stickstoffs auf Valenz- und Leitungsbänder auszumessen. Transporteigenschaften der Proben werden mittels Photostrom- und Zyklotronresonanzexperimenten studiert.
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Diese Arbeit stellt eine Studie der quaternären Halbleiterlegierung InGaAsN dar, die im Quantum Well Laser verwendet wird. Der optische Teil befasst sich mit Absorption sowie normaler und zeitaufgelöster Photolumineszenz. Die Ergebnisse dieses Teils werden für die Optimierung des Wachstums von InGaAsN durch Molekularstrahlepitaxie für erstklassige 1,3 µm Vertical Cavity Surface Emitting Laser (VCSEL) benutzt. Der Einfluss des thermischen Ausheilens auf die optischen Eigenschaften der InGaAsN Qua...
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