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Titel:

MOCVD of ZrO2 and HfO2 Thin Films from Modified Monomeric Precursors

Dokumenttyp:
Zeitschriftenaufsatz
Autor(en):
Patil, U.; Thomas, R.; Milanov, A.; Bhakta, R.; Ehrhart, P.; Waser, R.; Becker, R.; Becker, H.‐W.; Winter, M.; Merz, K.; Fischer, R. A.; Devi, A.
Zeitschriftentitel:
Chemical Vapor Deposition
Jahr:
2006
Band / Volume:
12
Heft / Issue:
2-3
Seitenangaben Beitrag:
172-180
Volltext / DOI:
doi:10.1002/cvde.200506394
Verlag / Institution:
Wiley
E-ISSN:
0948-19071521-3862
Publikationsdatum:
01.03.2006
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