Es wurden 4H-SiC-JBS-Dioden und PiN-Dioden unter extremen Betriebsbedingungen untersucht und charakterisiert. Hierzu wurde ein Hochtemperatur-Prüfstand aufgebaut, in dem vier verschiedene Messkonfigurationen implementiert sind. Untersuchungen an JBS-Dioden zeigten deren bipolare Aktivierung sowie deren Sperrfähigkeit in Abhängigkeit von strukturellen Variationen der Baulemente. Messungen an PiN-Dioden dienten dazu, TCAD-Simulationsmodelle im Temperaturbereich von 300K bis 770K zu kalibrieren, welche den Einfluß von Kohlenstoff-Leerstellen auf die Elektron-Loch-Rekombinationsraten beschreiben.
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Es wurden 4H-SiC-JBS-Dioden und PiN-Dioden unter extremen Betriebsbedingungen untersucht und charakterisiert. Hierzu wurde ein Hochtemperatur-Prüfstand aufgebaut, in dem vier verschiedene Messkonfigurationen implementiert sind. Untersuchungen an JBS-Dioden zeigten deren bipolare Aktivierung sowie deren Sperrfähigkeit in Abhängigkeit von strukturellen Variationen der Baulemente. Messungen an PiN-Dioden dienten dazu, TCAD-Simulationsmodelle im Temperaturbereich von 300K bis 770K zu kalibrieren, we...
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