Der Metall-Silizium-Kontakt hat in modernen elektronischen Bauelementen eine elementare Funktion, degradiert jedoch leicht bei einer elektrischen Überbeanspruchung. Der in dieser Arbeit entwickelte neuartige Graphenic Carbon-Kontakt erzeugt auf Silizium dieselbe niedrige Schottky-Barriere wie das häufig verwendete Titansilizid, hat aber eine deutlich erhöhte Zuverlässigkeit gegenüber kurzen Pulsen mit hoher Stromdichte. Das Material wurde durch chemische Gasphasenabscheidung und Sputtern hergestellt und das Herunterskalieren bis zu 0,7 nm wurde demonstriert.
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Der Metall-Silizium-Kontakt hat in modernen elektronischen Bauelementen eine elementare Funktion, degradiert jedoch leicht bei einer elektrischen Überbeanspruchung. Der in dieser Arbeit entwickelte neuartige Graphenic Carbon-Kontakt erzeugt auf Silizium dieselbe niedrige Schottky-Barriere wie das häufig verwendete Titansilizid, hat aber eine deutlich erhöhte Zuverlässigkeit gegenüber kurzen Pulsen mit hoher Stromdichte. Das Material wurde durch chemische Gasphasenabscheidung und Sputtern hergest...
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