In situ IR-spectroscopy as a tool for monitoring the radical hydrosilylation process on silicon nanocrystal surfaces

Titel:: In situ IR-spectroscopy as a tool for monitoring the radical hydrosilylation process on silicon nanocrystal surfaces
Autor(en):: Kehrle, Julian; Kaiser, Simon; Purkait, Tapas K.; Winnacker, Malte; Helbich, Tobias; Vagin, Sergei; Veinot, Jonathan G. C.; Rieger, Bernhard
Zeitschriftentitel:: Nanoscale
Jahr:: 2017
Band / Volume:: 9
Heft / Issue:: 24
Seitenangaben Beitrag:: 8489-8495
Volltext / DOI:: doi:10.1039/c7nr02265d
Verlag / Institution:: Royal Society of Chemistry (RSC)
E-ISSN:: 2040-33642040-3372
Publikationsdatum:: 01.01.2017
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