Next-Generation Nanoimprint Lithography: Innovative Approaches Towards Improving Flexibility And Resolution Of Nanofabrication In The Sub-15-nm Region
Übersetzter Titel:
Next-Generation Nanoimprint Lithography: Innovative Ansätze zur Verbesserung von Flexibilität und Auflösung von Nanofabrikationstechniken für den sub-15-nm Bereich
Nanoimprint Lithography (NIL) is an innovative nanofabrication technology for generating novel structures and functional devices with feature sizes in the sub-20-nm region. This thesis introduces innovative multi-step and single-step NIL techniques for improving patterning flexibility and resolution of NIL through unconventional technological approaches. Experimental results were obtained by building and putting into operation two custom-designed NIL prototype tools. Detailed design concepts as well as operational data for these tools are presented in the thesis.
«
Nanoimprint Lithography (NIL) is an innovative nanofabrication technology for generating novel structures and functional devices with feature sizes in the sub-20-nm region. This thesis introduces innovative multi-step and single-step NIL techniques for improving patterning flexibility and resolution of NIL through unconventional technological approaches. Experimental results were obtained by building and putting into operation two custom-designed NIL prototype tools. Detailed design concepts as...
»
Übersetzte Kurzfassung:
Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine innovative Nanofabrikationsmethode für den sub-20-nm Bereich zur Herstellung von Strukturen und funktionalen Bauteilen der Elektrotechnik und verwandter naturwissenschaftlicher und
ingenieurspezifischer Gebiete. In der vorliegenden Dissertation werden neuartige multi-step und single-step NIL Technologien eingeführt, die durch unkonventionelle technische Ansätze Flexibilität und Auflösung herkömmlicher NIL Prozesse grundlegend verbessern. Experimentelle Daten zu allen entwickelten NIL Prozessen wurden maßgeblich mit Hilfe von zwei speziell entworfenen und gebauten Prototypen von NIL-Geräten gewonnen. Konstruktions- sowie Operationsdaten zu diesen Geräten werden in der Arbeit ausführlich beschrieben.
«
Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine innovative Nanofabrikationsmethode für den sub-20-nm Bereich zur Herstellung von Strukturen und funktionalen Bauteilen der Elektrotechnik und verwandter naturwissenschaftlicher und
ingenieurspezifischer Gebiete. In der vorliegenden Dissertation werden neuartige multi-step und single-step NIL Technologien eingeführt, die durch unkonventionelle technische Ansätze Flexibilität und Auflösung herkömmlicher NIL Prozesse grundlegend verbessern. Experimentelle Da...
»