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Titel:
Low-temperature atomic layer deposition of copper(II) oxide thin films
Dokumenttyp:
Zeitschriftenaufsatz
Autor(en):
Iivonen, Tomi; Hämäläinen, Jani; Marchand, Benoît; Mizohata, Kenichiro; Mattinen, Miika; Popov, Georgi; Kim, Jiyeon; Fischer, Roland A.; Leskelä, Markku
Zeitschriftentitel:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Jahr:
2015
Band / Volume:
34
Heft / Issue:
1
Volltext / DOI:
doi:10.1116/1.4933089
Verlag / Institution:
American Vacuum Society
E-ISSN:
0734-21011520-8559
Publikationsdatum:
13.10.2015
BibTeX
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