In der Arbeit werden (i) das Wachstum von InN-Nanodrähten auf Si, (ii) das Legieren von InN-Nanodrähten mit Ga, und (iii) die elektrischen Eigenschaften der InN/InGaN-Si-Heterostrukturen untersucht. Spontan und selektiv gewachsene InN-Nanodrähte werden strukturell untersucht. InGaN-Nanodrähte weisen eine ungleichmäßige Verteilung der Ga-Atome auf. Strom-Spannungs-Kennlinien der InN/InGaN-Si-Heterostrukturen zeigen ein gleichrichtendes Verhalten, das stark von der Dotierung des Si-Substrats abhängt.
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In der Arbeit werden (i) das Wachstum von InN-Nanodrähten auf Si, (ii) das Legieren von InN-Nanodrähten mit Ga, und (iii) die elektrischen Eigenschaften der InN/InGaN-Si-Heterostrukturen untersucht. Spontan und selektiv gewachsene InN-Nanodrähte werden strukturell untersucht. InGaN-Nanodrähte weisen eine ungleichmäßige Verteilung der Ga-Atome auf. Strom-Spannungs-Kennlinien der InN/InGaN-Si-Heterostrukturen zeigen ein gleichrichtendes Verhalten, das stark von der Dotierung des Si-Substrats abhän...
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