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Original title:
Nanoimprint Lithography: Advances and Applications
Translated title:
Nanoimprint-Lithographie: Fortschritte und Anwendungen
Author:
Golibrzuch, Matthias
Year:
2023
Document type:
Dissertation
Faculty/School:
TUM School of Computation, Information and Technology
Advisor:
Becherer, Markus (Priv.-Doz. Dr.)
Referee:
Becherer, Markus (Priv.-Doz. Dr.); Koblmüller, Gregor (Priv.-Doz. Dr.)
Language:
en
Subject group:
PHY Physik
Keywords:
Nanotechnology, Nanoimprint Lithography, Nanofabrication
Translated keywords:
Nanotechnologie, Nanoimprint-Lithographie, Nanofabrikation
TUM classification:
TEC 030
Abstract:
We developed new nanoimprint lithography (NIL) processes based on our core lift-off NIL procedure to increase the versatility, flexibility, and applicability of NIL and to serve tailored nanostructures for application in several research fields. The new NIL processes enable the embedment of metal nanostructures into insulator layers, the nanopatterning of semiconductors surfaces, the size tuning of nanoimprinting stamps, and the incorporation of microstructures and imprinted nanostructures.
Translated abstract:
Wir haben neue Nanoimprint-Lithographie (NIL) Prozesse entwickelt, die auf unserem Lift-off-NIL-Verfahren basieren, um die Vielseitigkeit der NIL zu erhöhen und maßgeschneiderte Nanostrukturen für die Anwendung in verschiedenen Forschungsbereichen zu liefern. Die neuen NIL-Verfahren ermöglichen die Einbettung von Metall-Nanostrukturen in Isolatorschichten, die Nanostrukturierung von Halbleiteroberflächen, die Größenanpassung von Nanoimprinting-Stempeln und die Einbettung von Mikrostrukturen.
WWW:
https://mediatum.ub.tum.de/?id=1703622
Date of submission:
19.04.2023
Oral examination:
18.10.2023
File size:
25301430 bytes
Pages:
200
Urn (citeable URL):
https://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:bvb:91-diss-20231018-1703622-1-5
Last change:
18.11.2023
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