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Originaltitel:
Nanoimprint Lithography: Advances and Applications
Übersetzter Titel:
Nanoimprint-Lithographie: Fortschritte und Anwendungen
Autor:
Golibrzuch, Matthias
Jahr:
2023
Dokumenttyp:
Dissertation
Fakultät/School:
TUM School of Computation, Information and Technology
Betreuer:
Becherer, Markus (Priv.-Doz. Dr.)
Gutachter:
Becherer, Markus (Priv.-Doz. Dr.); Koblmüller, Gregor (Priv.-Doz. Dr.)
Sprache:
en
Fachgebiet:
PHY Physik
Stichworte:
Nanotechnology, Nanoimprint Lithography, Nanofabrication
Übersetzte Stichworte:
Nanotechnologie, Nanoimprint-Lithographie, Nanofabrikation
TU-Systematik:
TEC 030
Kurzfassung:
We developed new nanoimprint lithography (NIL) processes based on our core lift-off NIL procedure to increase the versatility, flexibility, and applicability of NIL and to serve tailored nanostructures for application in several research fields. The new NIL processes enable the embedment of metal nanostructures into insulator layers, the nanopatterning of semiconductors surfaces, the size tuning of nanoimprinting stamps, and the incorporation of microstructures and imprinted nanostructures.
Übersetzte Kurzfassung:
Wir haben neue Nanoimprint-Lithographie (NIL) Prozesse entwickelt, die auf unserem Lift-off-NIL-Verfahren basieren, um die Vielseitigkeit der NIL zu erhöhen und maßgeschneiderte Nanostrukturen für die Anwendung in verschiedenen Forschungsbereichen zu liefern. Die neuen NIL-Verfahren ermöglichen die Einbettung von Metall-Nanostrukturen in Isolatorschichten, die Nanostrukturierung von Halbleiteroberflächen, die Größenanpassung von Nanoimprinting-Stempeln und die Einbettung von Mikrostrukturen.
WWW:
https://mediatum.ub.tum.de/?id=1703622
Eingereicht am:
19.04.2023
Mündliche Prüfung:
18.10.2023
Dateigröße:
25301430 bytes
Seiten:
200
Urn (Zitierfähige URL):
https://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:bvb:91-diss-20231018-1703622-1-5
Letzte Änderung:
18.11.2023
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