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Titel:

Growth of Crystalline Gd2O3 Thin Films with a High-Quality Interface on Si(100) by Low-Temperature H2O-Assisted Atomic Layer Deposition

Dokumenttyp:
Zeitschriftenaufsatz
Autor(en):
Milanov, Andrian P.; Xu, Ke; Laha, Apurba; Bugiel, Eberhard; Ranjith, Ramadurai; Schwendt, Dominik; Osten, H. Jörg; Parala, Harish; Fischer, Roland A.; Devi, Anjana
Zeitschriftentitel:
Journal of the American Chemical Society
Jahr:
2009
Band / Volume:
132
Heft / Issue:
1
Seitenangaben Beitrag:
36-37
Volltext / DOI:
doi:10.1021/ja909102j
Verlag / Institution:
American Chemical Society (ACS)
E-ISSN:
0002-78631520-5126
Publikationsdatum:
14.12.2009
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