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Original title:
Next-Generation Nanoimprint Lithography: Innovative Approaches Towards Improving Flexibility And Resolution Of Nanofabrication In The Sub-15-nm Region 
Translated title:
Next-Generation Nanoimprint Lithography: Innovative Ansätze zur Verbesserung von Flexibilität und Auflösung von Nanofabrikationstechniken für den sub-15-nm Bereich 
Year:
2008 
Document type:
Dissertation 
Institution:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Advisor:
Lugli, Paolo (Prof., Ph.D.) 
Referee:
Abstreiter, Gerhard (Prof. Dr.) 
Language:
en 
Subject group:
ELT Elektrotechnik 
Keywords:
nanoimprint lithography; nanotransfer; nanofabrication; silicon; GaAs/AlGaAs; tool; 
Translated keywords:
Nanoimprint Lithographie; Nanotransfer; Nanofabrikation; Silizium; GaAs/AlGaAs; Gerät; 
Abstract:
Nanoimprint Lithography (NIL) is an innovative nanofabrication technology for generating novel structures and functional devices with feature sizes in the sub-20-nm region. This thesis introduces innovative multi-step and single-step NIL techniques for improving patterning flexibility and resolution of NIL through unconventional technological approaches. Experimental results were obtained by building and putting into operation two custom-designed NIL prototype tools. Detailed design concepts as...    »
 
Translated abstract:
Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine innovative Nanofabrikationsmethode für den sub-20-nm Bereich zur Herstellung von Strukturen und funktionalen Bauteilen der Elektrotechnik und verwandter naturwissenschaftlicher und ingenieurspezifischer Gebiete. In der vorliegenden Dissertation werden neuartige multi-step und single-step NIL Technologien eingeführt, die durch unkonventionelle technische Ansätze Flexibilität und Auflösung herkömmlicher NIL Prozesse grundlegend verbessern. Experimentelle D...    »
 
Oral examination:
24.07.2008 
Pages:
181 
Last change:
30.07.2008