Lateral structuring in the nanometer range is crucial in progressing the field of nanotechnology. Conventional techniques such as photolithography are in part capable of fulfilling these future demands, but they have high fabrication costs. This thesis focuses on soft lithography, a technique of printing nanometer-sized structures with soft stamps. It is a viable alternative to photolithography, and has the advantage of low production costs. New techniques for advancing this technology and overcoming certain limitations using poly-dimethylsiloxane (PDMS) as stamp material were realized and metal structures in the sub-100nm range were successfully fabricated. These new techniques were implemented using a self-made prototype intended also for commercialization purposes.     «

Lateral structuring in the nanometer range is crucial in progressing the field of nanotechnology. Conventional techniques such as photolithography are in part capable of fulfilling these future demands, but they have high fabrication costs. This thesis focuses on soft lithography, a technique of printing nanometer-sized structures with soft stamps. It is a viable alternative to photolithography, and has the advantage of low production costs. New techniques for advancing this technology and overc...     »

In der Nanoelektronik und Nanotechnologie kommt der lateralen Strukturierung von Bauelementen und Mustern in der Größenordnung von Nanometern eine Schlüsselrolle zu. Konventionelle – strahlenbasierte – Lithographietechniken können diese Aufgabe zwar noch erfüllen, aber nur unter wesentlich erhöhtem technischem Aufwand. In dieser Arbeit wird Soft lithography, eine auf Druck und weichen Stempeln basierende, wesentlich kostengünstigere Alternativtechnologie zur Herstellung von Nanometerstrukturen, vorgestellt. Es wird aufgezeigt, wie anhand von Polymer basierten Stempeln (z.B. Poly-Dimethylsiloxan PDMS) und neuen Positionierungstechniken Einschränkungen im Bereich der Auflösung und Justiergenauigkeit überwunden werden können. Neben Druckverfahren sind auch Konzepte zur Transferierung von Metallisierungen im sub-100nm Bereich erfolgreich umgesetzt worden. Die entwickelten neuen Soft Lithography Konzepte wurden zur Kommerzialisierung in ein Prototypensystem überführt.     «

In der Nanoelektronik und Nanotechnologie kommt der lateralen Strukturierung von Bauelementen und Mustern in der Größenordnung von Nanometern eine Schlüsselrolle zu. Konventionelle – strahlenbasierte – Lithographietechniken können diese Aufgabe zwar noch erfüllen, aber nur unter wesentlich erhöhtem technischem Aufwand. In dieser Arbeit wird Soft lithography, eine auf Druck und weichen Stempeln basierende, wesentlich kostengünstigere Alternativtechnologie zur Herstellung von Nanometerstrukturen,...     »