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- Titel:
Aluminum Oxide at the Monolayer Limit via Oxidant‐Free Plasma‐Assisted Atomic Layer Deposition on GaN
- Dokumenttyp:
- Zeitschriftenaufsatz
- Autor(en):
- Henning, Alex; Bartl, Johannes D.; Zeidler, Andreas; Qian, Simon; Bienek, Oliver; Jiang, Chang‐Ming; Paulus, Claudia; Rieger, Bernhard; Stutzmann, Martin; Sharp, Ian D.
- Zeitschriftentitel:
- Advanced Functional Materials
- Jahr:
- 2021
- Seitenangaben Beitrag:
- 2101441
- Volltext / DOI:
- doi:10.1002/adfm.202101441
- Verlag / Institution:
- Wiley
- E-ISSN:
- 1616-301X1616-3028
- Publikationsdatum:
- 12.06.2021
BibTeX
Vorkommen:
- mediaTUM GesamtbestandEinrichtungenForschungszentrenCatalysis Research Center (CRC)Publications_Year2021
- mediaTUM GesamtbestandEinrichtungenForschungszentrenCatalysis Research Center (CRC)Publications_PIsAlumniStutzmann
- mediaTUM GesamtbestandEinrichtungenForschungszentrenCatalysis Research Center (CRC)Joint Publications CRC PIs2021
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