Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine innovative Nanofabrikationsmethode für den sub-20-nm Bereich zur Herstellung von Strukturen und funktionalen Bauteilen der Elektrotechnik und verwandter naturwissenschaftlicher und
ingenieurspezifischer Gebiete. In der vorliegenden Dissertation werden neuartige multi-step und single-step NIL Technologien eingeführt, die durch unkonventionelle technische Ansätze Flexibilität und Auflösung herkömmlicher NIL Prozesse grundlegend verbessern. Experimentelle Daten zu allen entwickelten NIL Prozessen wurden maßgeblich mit Hilfe von zwei speziell entworfenen und gebauten Prototypen von NIL-Geräten gewonnen. Konstruktions- sowie Operationsdaten zu diesen Geräten werden in der Arbeit ausführlich beschrieben.
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Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine innovative Nanofabrikationsmethode für den sub-20-nm Bereich zur Herstellung von Strukturen und funktionalen Bauteilen der Elektrotechnik und verwandter naturwissenschaftlicher und
ingenieurspezifischer Gebiete. In der vorliegenden Dissertation werden neuartige multi-step und single-step NIL Technologien eingeführt, die durch unkonventionelle technische Ansätze Flexibilität und Auflösung herkömmlicher NIL Prozesse grundlegend verbessern. Experimentelle Da...
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