Nanoscale patterning at the Si/SiO2/graphene interface by focused He+ beam

Titel:: Nanoscale patterning at the Si/SiO2/graphene interface by focused He+ beam
Dokumenttyp:: Zeitschriftenaufsatz
Autor(en):: Böttcher, Artur; Schwaiger, Ruth; Pazdera, Tobias M; Exner, Daniela; Hauns, Jakob; Strelnikov, Dmitry; Lebedkin, Sergei; Gröger, Roland; Esch, Friedrich; Lechner, Barbara A J; Kappes, Manfred M
Zeitschriftentitel:: Nanotechnology
Jahr:: 2020
Band / Volume:: 31
Heft / Issue:: 50
Seitenangaben Beitrag:: 505302
Volltext / DOI:: doi:10.1088/1361-6528/abb5cf
Verlag / Institution:: IOP Publishing
E-ISSN:: 0957-44841361-6528
Publikationsdatum:: 06.10.2020
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