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Titel:

Nanoscale patterning at the Si/SiO2/graphene interface by focused He+ beam

Dokumenttyp:
Zeitschriftenaufsatz
Autor(en):
Böttcher, Artur; Schwaiger, Ruth; Pazdera, Tobias M; Exner, Daniela; Hauns, Jakob; Strelnikov, Dmitry; Lebedkin, Sergei; Gröger, Roland; Esch, Friedrich; Lechner, Barbara A J; Kappes, Manfred M
Zeitschriftentitel:
Nanotechnology
Jahr:
2020
Band / Volume:
31
Heft / Issue:
50
Seitenangaben Beitrag:
505302
Volltext / DOI:
doi:10.1088/1361-6528/abb5cf
Verlag / Institution:
IOP Publishing
E-ISSN:
0957-44841361-6528
Publikationsdatum:
06.10.2020
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