Es werden Elektronenstrahlverdampfungstechniken für die kosteneffiziente Herstellung von HTS Bandleitern der 2. Generation basierend auf REBa2Cu3O7 (RE = Gd, Dy) entwickelt. Es werden Hastelloy C276-Substrate mit einer MgO-Pufferschicht, die mit inclined substrate deposition hergestellt wird, sowie eine zusätzliche LaMnO3-Pufferschicht zwischen MgO und HTS verwendet. Für MgO-Puffer werden eine kritische Temperatur von 89 K und kritische Stromdichte von 1,1 MA/cm² (77 K, Nullfeld) erreicht, bei Verwendung eines zusätzlichen LaMnO3-Puffers 30% höhere Stromdichten.
«
Es werden Elektronenstrahlverdampfungstechniken für die kosteneffiziente Herstellung von HTS Bandleitern der 2. Generation basierend auf REBa2Cu3O7 (RE = Gd, Dy) entwickelt. Es werden Hastelloy C276-Substrate mit einer MgO-Pufferschicht, die mit inclined substrate deposition hergestellt wird, sowie eine zusätzliche LaMnO3-Pufferschicht zwischen MgO und HTS verwendet. Für MgO-Puffer werden eine kritische Temperatur von 89 K und kritische Stromdichte von 1,1 MA/cm² (77 K, Nullfeld) erreicht, bei V...
»