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Autor(en):
VEPREK, S 
Titel:
FUNDAMENTALS OF THE PLASMA INDUCED AND ASSISTED CVD - PLASMA PARAMETERS CONTROLLING THE CHEMICAL-EQUILIBRIUM, THE DEPOSITION KINETICS AND THE PROPERTIES OF THE FILMS 
Zeitschriftentitel:
JOURNAL DE PHYSIQUE 
Jahr:
1989 
Band / Volume:
50 
Heft / Issue:
C-5 
Seitenangaben Beitrag:
617-635