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Original title:
Innovative Nanofabrication Methods and Thin-Film Organic Devices 
Year:
2008 
Document type:
Habilitation 
Institution:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Language:
en 
Subject group:
ELT Elektrotechnik 
Abstract:
Die Nanoimprint-Lithographie (NIL) ist eine der zukunftsträchtigsten, nicht-optischen Nanolithographie-Methoden und kann Strukturen im sub-15-nm-Bereich produzieren. Das Interesse an neuartigen elektronischen Bauelementen auf der Basis organischer Materialien wächst zunehmend. Die Entwicklung von organischen Photodioden, Transistoren und Sensoren wird durch den Bedarf an kostengünstigen und großflächigen Herstellungsprozessen vorangetrieben. Vor diesem Hintergrund widmet sich die vorgelegte Arbe...    »
 
Oral examination:
10.12.2008 
Last change:
10.10.2016