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Dokumenttyp:
Patent 
Patent, Gebrauchsmuster Nr.:
EP 1082749 B1 
Erfinder:
Rohwer, E.; Zimmermann, R.; Heger, H.J.; Dorfner, R.; Boesl, U.; Kettrup, A. 
Patentanmelder:
GSF Forschungszentrum Umwelt 
Titel:
Gaseinlass für eine Ionenquelle 
IPC Hauptklasse:
H01J 49/04 
Priorität:
DE 19822674 (Anmeldung) 19980520 (Anmeldedatum) 
Anmeldeland:
EP 
Veröffentlichungsdatum / Patent:
10.04.2002 
Jahr:
2002 
Hinweise:
Erstanmeldung unter DE 19822674 A1 
TUM Einrichtung:
Arbeitsgruppe Physikalische Chemie 
Format:
Text