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Original title:
Einfluss von Gate-Tunnelströmen auf Switched-Capacitor-Schaltungen 
Translated title:
Impact of Gate Tunneling Currents on Switched Capacitor Circuits 
Year:
2008 
Document type:
Dissertation 
Institution:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Advisor:
Schmitt-Landsiedel, Doris (Prof. Dr.) 
Language:
de 
Subject group:
ELT Elektrotechnik 
Abstract:
Integrierte MOS-Transistoren weisen immer dünnere Gateoxide und damit immer höhere Gate-Tunnelströme auf. Dabei sind je nach Betriebszustand unterschiedliche Komponenten dominierend. In Switched-Capacitor-Schaltungen können für verschiedene Strukturen und Betriebszustände unterschiedliche Störungen auftreten. Dies wird an den Beispielen eines Integrierers und eines voll differentiellen Successive Approximation Wandlers gezeigt. Es wird eine Methodik vorgestellt, um den Einfluss von Gate-Tunnelst...    »
 
Translated abstract:
Integrated MOS transistors’ gate oxides are getting thinner and thus gate tunneling currents are getting higher. Different components are dominating depending on the operating condition. In Switched Capacitor circuits different disturbances can occur for different structures and operating conditions. This is shown by the examples of an integrator and a fully differential successive approximation converter. A methodology is presented, in order to simulate the impact of gate tunneling currents on...    »
 
Last change:
17.01.2012