- Dokumenttyp:
- Zeitschriftenaufsatz
- Autor(en):
- Henning, Alex; Bartl, Johannes D.; Zeidler, Andreas; Qian, Simon; Bienek, Oliver; Jiang, Chang‐Ming; Paulus, Claudia; Rieger, Bernhard; Stutzmann, Martin; Sharp, Ian D.
- Titel:
- Aluminum Oxide at the Monolayer Limit via Oxidant‐Free Plasma‐Assisted Atomic Layer Deposition on GaN
- Zeitschriftentitel:
- Advanced Functional Materials
- Jahr:
- 2021
- Seitenangaben Beitrag:
- 2101441
- Volltext / DOI:
- doi:10.1002/adfm.202101441
- Verlag / Institution:
- Wiley
- E-ISSN:
- 1616-301X1616-3028
- Publikationsdatum:
- 12.06.2021
BibTeX
Login
