Benutzer: Gast  Login
Autor(en):
Fulde, M.; Heigl, A.; Weis, M.; M, Wirnshofer.; Arnim, K.v.; Nirschl, T.; Sterkel, M.; Koblinger, G.; Hansch, W.; Wachutka, G.; Schmitt-Landsiedel, D.
Titel:
Fabrication, Optimization and Application of Complementary Multiple-Gate Tunneling FETs
Kongress- / Buchtitel:
2nd IEEE International Nanoelectronics Conference, INEC
Jahr:
2008
Monat:
March 24-27
Seiten:
579-584
Sprache:
english
 BibTeX