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Originaltitel:
Innovative Nanofabrication Methods and Thin-Film Organic Devices 
Jahr:
2008 
Dokumenttyp:
Habilitation 
Institution:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Sprache:
en 
Fachgebiet:
ELT Elektrotechnik 
Kurzfassung:
Die Nanoimprint-Lithographie (NIL) ist eine der zukunftsträchtigsten, nicht-optischen Nanolithographie-Methoden und kann Strukturen im sub-15-nm-Bereich produzieren. Das Interesse an neuartigen elektronischen Bauelementen auf der Basis organischer Materialien wächst zunehmend. Die Entwicklung von organischen Photodioden, Transistoren und Sensoren wird durch den Bedarf an kostengünstigen und großflächigen Herstellungsprozessen vorangetrieben. Vor diesem Hintergrund widmet sich die vorgelegte Arbe...    »
 
Mündliche Prüfung:
10.12.2008 
Letzte Änderung:
10.10.2016