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Originaltitel:
Modeling of Leakage Currents in High-k Dielectrics for Future DRAM Application
Übersetzter Titel:
Modellierung von Leckströmen in high-k Dielektrika für zukünftige DRAM Applikationen
Autor:
Popescu, Dan Horia
Jahr:
2015
Dokumenttyp:
Dissertation
Fakultät/School:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Betreuer:
Lugli, Paolo (Prof., Ph.D.)
Gutachter:
Lugli, Paolo (Prof., Ph.D.); Kreupl, Franz (Prof. Dr.)
Sprache:
en
Fachgebiet:
ELT Elektrotechnik
TU-Systematik:
TEC 030d
Kurzfassung:
In this work, we have investigated the leakage mechanism in high permittivity thin film metal-insulator-metal structures. Employing a novel kinetic Monte Carlo but also a modified drift-diffusion simulator, we analyze the behavior of the leakage current for varying bias and temperature conditions. Once validated, our simulations help us identify the main process responsible for the large reported leaking currents: a multi-step trap assisted tunneling process via oxygen vacancies. Several solutio...     »
Übersetzte Kurzfassung:
In dieser Arbeit haben wir die Leckmechanismen von high-k Metall-Isolator-Metall Dünnschichtkondesatoren untersucht.Durch den Einsatz eines neuartigen kinetischen Monte-Carlo aber auch eines modifizierten Drift-Diffusions Simulator wird das Verhalten der Leckströme für unterschiedliche Bias- und Temperaturbedingungen analysiert. Nach der Validierung , helfen unseren Simulationen uns das Hauptmechanismus für die großen Leckströme zu erkennen: ein mehrstufiges Defekte-unterstütztes Tunnelprozess d...     »
WWW:
https://mediatum.ub.tum.de/?id=1237272
Eingereicht am:
08.01.2015
Mündliche Prüfung:
14.10.2015
Dateigröße:
10054203 bytes
Seiten:
207
Urn (Zitierfähige URL):
https://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:bvb:91-diss-20151014-1237272-1-8
Letzte Änderung:
15.04.2016
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