Die Nanoimprint-Lithographie (NIL) ist eine der zukunftsträchtigsten, nicht-optischen Nanolithographie-Methoden und kann Strukturen im sub-15-nm-Bereich produzieren. Das Interesse an neuartigen elektronischen Bauelementen auf der Basis organischer Materialien wächst zunehmend. Die Entwicklung von organischen Photodioden, Transistoren und Sensoren wird durch den Bedarf an kostengünstigen und großflächigen Herstellungsprozessen vorangetrieben. Vor diesem Hintergrund widmet sich die vorgelegte Arbeit der Entwicklung innovativer Techniken und Materialien für NIL sowie der Herstellung von neuartigen Strukturen und Bauelementen im Bereich der Nano- und molekularen Elektronik. Es wurden innovative Techniken aufgezeigt, die sowohl das Auflösungsvermögen als auch die Strukturierungsflexibilität existierender state-of-the-art NIL-Technologien signifikant steigern. Nanotechnologie-basierte Prozesse wurden optimiert, die auf eine Verbesserung der Effizienz von Bauelementen wie organische Photodetektoren und organische Solarzellen abzielen. Die Nutzung der untersuchten physikalischen Eigenschaften von organischen Materialien führt zur Entwicklung neuartiger thermischer oder biologischer Sensoren.     «

Die Nanoimprint-Lithographie (NIL) ist eine der zukunftsträchtigsten, nicht-optischen Nanolithographie-Methoden und kann Strukturen im sub-15-nm-Bereich produzieren. Das Interesse an neuartigen elektronischen Bauelementen auf der Basis organischer Materialien wächst zunehmend. Die Entwicklung von organischen Photodioden, Transistoren und Sensoren wird durch den Bedarf an kostengünstigen und großflächigen Herstellungsprozessen vorangetrieben. Vor diesem Hintergrund widmet sich die vorgelegte Arbe...     »