Abstract:
Streulicht-Nahfeldmikroskopie (s-SNOM) erlaubt die Untersuchung charakteristischer optischer Eigenschaften von Materialien auf der Nanometerskala. In dieser Arbeit wird gezeigt, dass s-SNOM im Infrarot- (IR) und Terahertz- (THz) Spektralbereich eine materialspezifische Abbildung der funktionellen Strukturen von Halbleiterbauelementen, die Erkennung der Ladungsträgerverteilung in den Bauelementen oder die Beobachtung von nanoskaligen Spannungsfeldern in Silizium-Karbid ermöglicht. Um eine hohe Sensitivität von s-SNOM gegenüber den Eigenschaften der freien Ladungsträger in einem Konzentrationsbereich von ca. 1017-1019cm-3 zu erreichen, wurde die Streulicht-Nahfeldmikroskopie in den THz-Spektralbereich erweitert. Mit dem entwickelten System konnte bei einer Frequenz von 2.54THz (λ ≈118μm) eine Auflösung von ca. 40nm (≈λ/3000) erreicht werden.