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Autor(en):
VEPREK, S; IQBAL, Z; OSWALD, HR; al., et 
Titel:
PARAMETERS CONTROLLING THE DEPOSITION OF AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON IN SI-H DISCHARGE PLASMAS 
Zeitschriftentitel:
JOURNAL DE PHYSIQUE 
Jahr:
1981 
Band / Volume:
42 
Heft / Issue:
NC4 
Seitenangaben Beitrag:
251-255