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Autor(en):
MA, DY; MA, SL; XU, KW; al., et 
Titel:
Effecting of oxygen and chlorine on nano-structured TiN/Si3N4 films hardness 
Zeitschriftentitel:
MATERIALS LETTERS 
Jahr:
2005 
Band / Volume:
59 
Heft / Issue:
Seitenangaben Beitrag:
838-841