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Originaltitel:
Next-Generation Nanoimprint Lithography: Innovative Approaches Towards Improving Flexibility And Resolution Of Nanofabrication In The Sub-15-nm Region 
Übersetzter Titel:
Next-Generation Nanoimprint Lithography: Innovative Ansätze zur Verbesserung von Flexibilität und Auflösung von Nanofabrikationstechniken für den sub-15-nm Bereich 
Jahr:
2008 
Dokumenttyp:
Dissertation 
Institution:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Betreuer:
Lugli, Paolo (Prof., Ph.D.) 
Gutachter:
Abstreiter, Gerhard (Prof. Dr.) 
Sprache:
en 
Fachgebiet:
ELT Elektrotechnik 
Stichworte:
nanoimprint lithography; nanotransfer; nanofabrication; silicon; GaAs/AlGaAs; tool; 
Übersetzte Stichworte:
Nanoimprint Lithographie; Nanotransfer; Nanofabrikation; Silizium; GaAs/AlGaAs; Gerät; 
Kurzfassung:
Nanoimprint Lithography (NIL) is an innovative nanofabrication technology for generating novel structures and functional devices with feature sizes in the sub-20-nm region. This thesis introduces innovative multi-step and single-step NIL techniques for improving patterning flexibility and resolution of NIL through unconventional technological approaches. Experimental results were obtained by building and putting into operation two custom-designed NIL prototype tools. Detailed design concepts as...    »
 
Übersetzte Kurzfassung:
Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine innovative Nanofabrikationsmethode für den sub-20-nm Bereich zur Herstellung von Strukturen und funktionalen Bauteilen der Elektrotechnik und verwandter naturwissenschaftlicher und ingenieurspezifischer Gebiete. In der vorliegenden Dissertation werden neuartige multi-step und single-step NIL Technologien eingeführt, die durch unkonventionelle technische Ansätze Flexibilität und Auflösung herkömmlicher NIL Prozesse grundlegend verbessern. Experimentelle D...    »
 
Mündliche Prüfung:
24.07.2008 
Seiten:
181 
Letzte Änderung:
30.07.2008